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反射膜一般可分为两类，一类是金属反射膜，一类是全电介质反射膜。此外，还有将两者结合的金属电介质反射膜，功能是增加光学表面的反射率。金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损大，反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高，可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层，组成金属电介质反射膜。需要指出的是，金属电介质射膜增加了某一波长(或者某一波区)的反射率，却***了金属膜中性反射的特点。


光学镀膜在沉积过程中，每一层的厚度均由光学或石英晶体监控。这两种技术各有优缺点，这里不作讨论。其共同点是材料蒸发时它们均在真空中使用，因而，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。薄膜吸收的潮气取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。光学镀膜材料常见的光学镀膜材料有以下几种:氟化镁材料特点:无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。二氧化硅材料特点:无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。AF处理报价

光学镀膜方法材料氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。

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我们都知道金属表面喷漆是一种保护金属不被氧化腐蚀的方法。良好的喷漆涂装保护层保持连续完整无损，结合良好，能够成为舒缓腐蚀介质***的屏障。可是当我们遇到金属喷漆附着力不好时，我们该怎么办呢？镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。对于CO2激光灯中红外线波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较***的技术，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。AF处理报价