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东坑外壳硬化加工厂商来电咨询「在线咨询」

发布时间:2022-03-12 02:51:00        








光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较***的技术,如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发,或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量,传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。薄膜的光学性质,如折射率、吸收和激光损伤阈值,主要依赖于膜层的显微结构。薄膜材料、残余气压和基底温度都可能影响薄膜的显微结构。外壳硬化加工厂商


在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。不同应用时输出镜有不同透过率的要求,因此必须采用光学镀膜方法。常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高反膜、增透膜之外,还可以镀对某波长增反射、对另一波长增透射的特殊膜,如激光倍频技术中的分光膜等。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像质量,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展,对膜层的反射率和透过率有不同的要求,外壳硬化加工厂商


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